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    正一品石材護理

    環氧磨石表面處理的全新工藝

    文章出處:責任編輯:人氣:-發表時間:2019-07-09 09:35【

    一、環氧磨石表面處理傳統工藝

    1、開面后對孔洞用環氧砂漿修補后打磨,修補1-2道碟后直接水磨到3000號碟;

    2、表面干燥后用聚胺脂罩面,干燥后即可以使用。

    二、傳統工藝存在的問題

    (一)修補存在問題

    無論用環氧砂漿修復多少遍,均無法將其表面孔洞或毛孔較為徹底地修復,因為砂漿會造成一定量氣孔在打磨后再次出現,同時,打磨后邊碟時也會帶出原表面不存在的新的氣孔。

    (二)罩面或拋光存在問題

    1、盡失美感:無法充分彰顯出“石米”的立體感和顏色美;光澤整體成魚鱗狀、散光;物體倒影彎曲變形,不真實;

    2、耐候性差:有機材料在環境中容易被紫外線酸堿老化,不能持久;

    3、耐磨性差:由于修補工藝的缺憾,罩面后,表面仍然存在不平整現象,摩擦受阻,表面容易出現劃痕;同時有機物的硬度與無機物相比也差些,常出現劃傷和剝脫。

    有機罩面處理后光澤模糊

    有機罩面后光怪陸離

    三、納米二氧化硅修補與晶面工藝

    1、環氧開面后的修補:開面后對孔洞用環氧砂漿修補后打磨,修補1-2道碟;

    2、無機微填充修補:用500號的厚碟一邊打磨一邊噴“魔硅”,將打磨出來的粉料在魔硅的濕潤下填入孔洞中,能充分而徹底地將新舊孔洞一并修復成玻璃表面。

    四、環氧磨石表面處理全新工藝

    1、滲硅:500號打磨后,用噴壺將魔硅均勻噴灑于環氧表面并充分干燥(表面無明顯水漬)。由于環氧吸水力差,要加強空氣流動;

    2、水磨1000號碟:表面魔硅干燥后,用水磨碟細致打磨;

    3、底光要求:1000號水磨碟打磨后出光在20-30度左右;

    4、無機晶面:表面干燥后用晶面機(或正一品“膏拋機”)拋108度特種石材晶面膏1-2遍,若仍存在拋光不均勻時,可用111度膏劑漿修復晶面。

    無機處理表面光澤真實、清晰、純正、自然

    五、新工藝優點

    1、施工簡單、一氣呵成:全程基本無過長的等待時間,一氣呵成,做完便可以使用;

    2、美到極致:玻璃質感強烈,其中的“石米”立體感與顏色彰顯極致;光澤純正真實,光澤倒影加倍“放大”了空間;

    3、功能性強:耐磨防滑性強,耐候性好,特別是對紫外線反射效果好,能有效防止環氧地坪被紫外線老化;

    六、注意事項

    1、碟片選擇:填充務必使用硬厚碟,不脫色;

    2、滲透劑選擇:滲透修補劑不能用可溶于水的粘稠水玻璃類;

    3、底光要求:1000號水磨碟打磨出光在20-30度左右;

    4、晶面膏要求:打磨后的第一遍使用納米二氧化硅晶面膏,不能含蠟質;

    5、分隔條染色:若存在分隔條時,大些的孔洞修補盡量用環氧修補,防止用無機干磨修補分隔條污染板面;

    6、晶面機或高速機要求:拋光務必用墊子,不可用鋼絲棉,高拋機或正一品膏拋機轉速不能高于1000轉/分鐘。

    經過此全新工藝處理過后的效果

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